Características de diseño

Alta conductividad térmica y excelente rendimiento de disipación de calor:

Con una conductividad térmica superior a 170 W / m · K, superando con creces a la alúmina, puede disipar rápidamente el calor, lo que lo hace adecuado para 

Operaciones sensibles al calor, como el procesamiento láser y el embalaje de chips.

Excelente aislamiento eléctrico: 

Mantiene buenas propiedades de aislamiento incluso a altas temperaturas, evitando fugas y haciéndolo adecuado para alto voltaje. 

Entornos y plataformas de portadores electrónicos.

Alta resistencia y resistencia a las grietas: 

En comparación con la cerámica de alúmina, el nitruro de aluminio tiene una mayor resistencia a la flexión y al choque térmico, resistiendo la mecánica 

Estrés y choque térmico.

Buena estabilidad química: 

Resistente a la corrosión ácida y alcalina, no reacciona a con los materiales procesados, lo que lo hace adecuado para salas limpias o de alta pureza. 

Entornos.

Estructura personalizable: 

La superficie se puede procesar con matrices de microporos, tanques de vacío, ranuras de posicionamiento, orificios pasantes, etc., según el proceso 

Requisitos.

Estabilidad de adsorción al vacío a alta temperatura: 

Incluso en funcionamiento continuo en entornos de alta temperatura, su rendimiento de adsorción permanece estable y no es 

Se deforma o se agrieta fácilmente debido a la expansión térmica.

Áreas de aplicación

Fabricación de semiconductores: 

Plataformas de adsorción al vacío utilizadas en el transporte de obleas, fotolitografía y procesos de inspección para garantizar la posición 

Precisión y estabilidad térmica.

Equipo De Procesamiento Láser: 

Estabiliza y adsorbe las piezas procesadas por láser, proporcionando una conducción rápida del calor para evitar el sobrecalentamiento y la deformación del material.

Equipo CNC de precisión: 

Se utiliza en mecanizado CNC / micro / nano para sujetar piezas de trabajo delgadas y quebradizas como láminas de cerámica y vidrio.

LED y Optoelectrónica 

Industria: Se utiliza para la fijación y el enfriamiento durante el procesamiento de zafiro y sustratos cerámicos.